Lov 15. juni 1990 nr. 27 om vern av kretsmønstre for integrerte kretser (kretsmønsterloven) hører under Justis- og beredskapsdepartementet.

Loven handler om vern av kretsmønstre for integrerte kretser. Dette er et unikt vern, et sui generis-vern for kretsmønstre, som bygger på konsepter fra både opphavsretten og patentretten.

Formålet med å lage kretsmønstre (også kalt masker) er å bruke dem som «sjablonger» for å fremstille integrerte kretser (også kalt brikker eller chips). Integrerte kretser brukes i alt fra brødristere til pc-er og satellitter.

Loven er i dag lite brukt, men den har en interessant historie som viser utviklingen til og dynamikken mellom forskjellige typer immaterielle rettigheter, og mellom teknologi og immaterialrett.

I dag er andre immaterielle rettigheter, som beskyttelsen av forretningshemmeligheter, patenter og opphavsrett, viktigere for beskyttelsen av integrerte kretser og maskinvarebeskrivelser enn kretsmønsterloven, se for eksempel punkt 43 i fortalen til forordning (EU) 2023/1781 og Thomas Hoeren, «The protection of pioneer innovations – Lessons learnt from the semiconductor chip industry and its IP law framework», John Marshall Journal of Information Technology & Privacy Law, årgang 32, 2016 s. 151. For Norges del er produksjonen av integrerte kretser begrenset.

Definisjon av kretsmønstre og integrerte kretser

«Kretsmønster» og «integrert krets» er ikke definert i den norske kretsmønsterloven. I forarbeidene beskrives et kretsmønster som «den utforming som ligger til grunn for produksjon av integrerte kretser», jf. Ot.prp. nr. 34 (1989–90) Om lov om vern av kretsmønstre for integrerte kretser s. 3. I amerikansk lovgivning beskrives kretsmønstre som forhåndsbestemte, tredimensjonale mønstre av metallisk, isolerende eller halvledende materiale som er til stede eller fjernet fra lagene av et halvlederbrikkeprodukt. En variant av denne definisjonen ble brukt i direktiv 87/54/EØF 16. desember 1986 om rettslig vern av halvlederprodukters kretsmønstre artikkel 1 nr. 1 bokstav b.

Historikk

Bakgrunnen for kretsmønsterloven er at USA i 1984 vedtok Semiconductor Chip Protection Act (SCPA), som i dag er del av US Code Title 17 Chapter 9.

Semiconductor Chip Protection Act ble vedtatt etter krav fra industrien, der man fryktet utbredt piratkopiering av brikker. Det viste seg imidlertid at frykten var overdrevet. Fire år etter at loven ble vedtatt, var det kun én publisert rettssak i USA om piratkopiering av brikker, Brooktree v. AMD. Se Timothy T. Hsieh, «A bridge between copyright and patent law: Towards a modern-day reapplication of the semiconductor chip protection act», Fordham Intellectual Property, Media & Entertainment Law Journal, årgang 28, 2018 s. 729–775.

I Norge og i Europa ble det ansett som viktig at kretsmønstre for norske og europeiske integrerte kretser oppnådde vern i USA. For å oppnå slikt vern måtte man i utgangspunktet ha tilsvarende lovgivning som i USA, se US Code Title 17 § 914. Dette ble vektlagt i lovgivningsprosessen, se NOU 1986: 18 Opphavsrett og EDB s. 25. I dag er kretsmønstre vernet gjennom avtale 15. april 1994 om handelsrelaterte sider ved immaterielle rettigheter (TRIPS-avtalen) del 2 avsnitt 6 samt direktiv 87/54/EØF. TRIPS-avtalen inkorporerer vesentlige deler av Washington-traktaten, se TRIPS-avtalen artikkel 35.

Sui generis-vern og forholdet til opphavsrett

Hovedbegrunnelsen for vernet av kretsmønstre var at kretsmønstre kan kopieres til en brøkdel av kostnadene som trengs for å utvikle dem selvstendig, se fortalen til direktiv 87/54/EØF og Ot.prp. nr. 34 (1989–90) kapittel 1 og 2.

Hovedbegrunnelsen for å lage et sui generis-vern for kretsmønstre, heller enn å benytte opphavsretten, var at man i USA ikke ønsket at opphavsretten skulle utvides til funksjonelle verk, se Steven P. Kasch, «The semiconductor chip protection act: Past, present, and future», Berkeley Technology Law Journal, årgang 7, nr. 1, 1992 s. 71–105 samt NOU 1986: 18 s. 23, hvor man peker på «uroen enkelte følte i forbindelse med å la vernet [av åndsverk] utstrekkes til datamaskinprogrammer» som en grunn til å lage et eget vern for kretsmønstre. Deler av industrien var også bekymret for at opphavsrettsbeskyttelse kunne hindre omvendt utvikling (reverse engineering), som var svært utbredt, se Hsieh (2018). The Semiconductor Chip Protection Act ble vedtatt før bestemmelser om omvendt utvikling, så som lov av 15. juni 2018 nr. 40 om opphavsrett til åndsverk mv. (åndsverkloven) § 42 og tilsvarende bestemmelser i amerikansk rett, ble vedtatt.

Opphavsretten verner ikke uttrykk som dikteres av funksjonalitet, slik at det ikke er rom for kreative valg, men kan beskytte funksjonelle uttrykk der det er rom for slike kreative valg, se for eksempel EU-domstolen i sak C-833/18 Brompton Bicycle mot Chedech/Get2Get avsnitt 26 og sak C-683/17 Cofemel – Sociedade de Vestuário SA mot G-Star Raw CV avsnitt 31. Det hadde derfor teoretisk vært mulig å tenke seg et vern for kretsmønstre under reglene om åndsverk, men det kunne ført til andre utfordringer; for eksempel kunne det å fremstille integrerte kretser ved hjelp av kretsmønstre falt utenfor vernet opphavsretten gir mot eksemplarfremstilling, se NOU 1986: 18 s. 25.

Åndsverkloven § 15 utelukker i dag vern av selve kretsmønstrene som åndsverk. I stedet kan kretsmønstre oppnå vern etter kretsmønsterloven.

Utvikling av integrerte kretser

Tilpasning og videreutvikling kan være tungt å gjennomføre uten tilgang til kildekoden i maskinvarebeskrivende språk for de mer avanserte integrerte kretsene. Slik kildekode kan være beskyttet av opphavsrett og andre former for immaterielle rettigheter.

Det kan hevdes at lovgivningen bærer preg av at lovgiverne i USA og Europa fokuserte mer på umiddelbare økonomiske spørsmål og juridiske spørsmål rundt opphavsrett i lovgivningsarbeidet enn den tekniske utviklingen av integrerte kretser, se Kasch (1992) s. 99 og NOU 1986: 18 s. 25.

Selve kretsmønsteret er en avgrenset del av utviklingen av integrerte kretser i dag. Kombinasjonen av mer kompliserte brikker, som oftere blir tilpasset produktene de inngår i, gjør det mindre økonomisk interessant å lage direkte kopier og å drive med omvendt utvikling av brikker enn det var da ideen om vern av kretsmønstre oppsto. Se Derek E. Bambauer, «Everything you want: The paradox of customized intellectual property regimes», Berkeley Technology Law Journal, årgang 39, nr. 1, 2024 s. 204–274 på s. 230.